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摘要:
针对硅在KOH中的各向异性腐蚀提出了一个新的物理模型.此模型从微观角度出发,根据实际的腐蚀化学反应过程确定了若干微观状态,提出了反映腐蚀特性的若干微观参数.将腐蚀温度、浓度等对腐蚀速率的影响也反映了进去.计算结果与实验结果进行了对比,表明此模型在解释硅在KOH中各向异性腐蚀特性等方面具有一定的合理性.
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文献信息
篇名 硅在KOH中各向异性腐蚀的物理模型
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 各向异性腐蚀 激活能 腐蚀速率
年,卷(期) 2002,(4) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 434-439
页数 6页 分类号 TN304.02
字数 5015字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.04.020
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴文刚 北京大学微电子所 10 81 3.0 9.0
2 郝一龙 北京大学微电子所 46 716 15.0 25.0
3 黄庆安 东南大学微电子中心 35 415 12.0 19.0
4 杨振川 北京大学微电子所 6 85 4.0 6.0
5 姜岩峰 东南大学微电子中心 5 81 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
各向异性腐蚀
激活能
腐蚀速率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家重点基础研究发展计划(973计划)
英文译名:National Basic Research Program of China
官方网址:http://www.973.gov.cn/
项目类型:
学科类型:农业
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