聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶

• 作者: 傅鹤鉴 彭志坚 曾红梅 苏志珊 陈德本 马洪
• 来源期刊: 四川大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 聚硅烷 光刻胶 O2-RIE处理
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 页码范围: 299-303
• 页数: 5页
• 分类号: O438
• 字数: 4273字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2002.02.028

摘要

讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层,几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层,在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果.由于聚硅烷与其它树脂相容性不好,作者将含氯聚硅烷作为添加剂添加到枝状聚硅烷中进行光刻实验,获得最小分辨率为0.5μm的明暗线条等宽图形,对以不同聚硅烷相互作为添加剂,将其配方性能优化进行了有益的尝试.对多种影响图形转移质量的因素进行了一些定性的讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾红梅	四川大学化学系	12	136	6.0	11.0
2	苏志珊	四川大学化学系	6	36	4.0	6.0
3	马洪	四川大学化学系	59	260	9.0	13.0
4	傅鹤鉴	四川大学化学系	10	54	5.0	7.0
5	陈德本	四川大学化学系	22	228	8.0	14.0
6	彭志坚	四川大学化学系	5	24	3.0	4.0