用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型

• 作者: 严晓浪 付萍 史峥 王国雄 陈志锦
• 来源期刊: 浙江大学学报(工学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻仿真 光学邻近校正 可变阈值光刻胶模型
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 无线电及电子学、电信技术
• 页码范围: 634-637，684
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2314字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2002.06.008

摘要

提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD(critical dimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据.由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(optical proximity correction,OPC)仿真工具.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王国雄	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	20	98	6.0	9.0
3	史峥	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	51	176	7.0	11.0
6	严晓浪	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	246	1634	19.0	29.0
7	陈志锦	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	7	51	4.0	7.0
8	付萍	华东地质学院信息工程系	4	18	4.0	4.0