电子束蒸发沉积TiO2薄膜结构及光学性能的研究

• 作者: 张幼陵 王学华 薛亦渝 赵利
• 来源期刊: 武汉理工大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子束蒸发 TiO2 光学薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（11）
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4431.2002.11.004

摘要

研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在K9玻璃上TiO2薄膜的结构和光学性能的影响.正交试验结果表明,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素,制备TiO2薄膜的最佳工艺参数为:基片温度300 ℃,工作真空2×10-2 Pa,沉积速率0.2 nm/s.采用最佳工艺沉积在透明基片上的TiO2薄膜在可见光区具有良好的透过特性,同时也得出了薄膜的光学带隙能Eg=3.77 eV.SEM观察结果表明薄膜为柱状纤维结构,柱状纤维的直径在100～150 nm之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛亦渝		48	532	13.0	21.0
2	赵利		5	170	5.0	5.0
3	王学华		7	179	6.0	7.0
4	张幼陵		10	182	5.0	10.0