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摘要:
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Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究
ZAO薄膜
射频磁控溅射
溅射时间
退火
光电性能
磁控溅射掺碳TiB2薄膜的Raman光谱与摩擦行为
掺碳
TiB2薄膜
中间层
摩擦因数
磁控溅射
射频磁控溅射法制备硼薄膜
硼薄膜
射频磁控溅射
制备
形貌表征
成分分析
退火工艺对磁控溅射LiCoO2薄膜形貌与力学性能的影响
LiCoO2薄膜
表面形貌
硬度
杨氏模量
摩擦因数
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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(/年)
文献信息
篇名 采用磁控溅射工艺试制低TCR的Cr-Si2薄膜电阻
来源期刊 混合微电子技术 学科 工学
关键词 磁控溅射 TCR Cr-Si2薄膜电阻 混合集成电路
年,卷(期) 2003,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 47-49
页数 3页 分类号 TN45
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 姜贵云 3 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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参考文献  (0)
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同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2003(0)
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  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
TCR
Cr-Si2薄膜电阻
混合集成电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
混合微电子技术
季刊
安徽省合肥市6068信箱(合肥市绩溪路260号)
出版文献量(篇)
1458
总下载数(次)
46
总被引数(次)
0
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