微波等离子体化学气相沉积--一种制备金刚石膜的理想方法

• 作者: 汪建华 满卫东 王传新 马志斌
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 化学
• 关键词: 金刚石膜 化学气相沉积 微波
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 知识与进展
• 页码范围: 50-56
• 页数: 7页
• 分类号: TB848|O643.131
• 字数: 5250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2003.01.011

摘要

综述了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备金刚石膜技术,表明MPCVD是高速、大面积、高质量制备金刚石膜的首选方法.介绍了几种常用的MPCVD装置类型,从MPCVD装置的结构特点可以看到,用该类型装置在生长CVD金刚石膜时显示出独特的优越性和灵活性.用MPCVD法制备出的金刚石膜其性能接近甚至超过天然金刚石,并在多个领域得到广泛应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	满卫东	中国科学院等离子体物理研究所	12	309	8.0	12.0
5	王传新	中国科学院等离子体物理研究所	14	340	9.0	14.0
7	马志斌	中国科学院等离子体物理研究所	7	170	5.0	7.0
10	汪建华	中国科学院等离子体物理研究所	21	252	8.0	15.0