SnO2气敏薄膜的制作与性能研究

• 作者: 于国萍 易涛 曾志峰 魏正和
• 来源期刊: 武汉大学学报(理学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锡薄膜 射频溅射 退火 红外光谱
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 613-616
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3659字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-8836.2003.05.017

摘要

采用射频溅射法制备了SnO2气敏薄膜,并在薄膜中掺杂Sb2O3 和Pt用于气敏薄膜的增敏.使用XRD对制备的薄膜进行了结构分析,测量了薄膜的吸收光谱和电阻,并研究了薄膜工艺条件的改变对薄膜结构和性能的影响.结果表明,不同退火温度下处理的氧化锡薄膜均为金红石结构,退火温度对薄膜的晶粒尺寸和电阻有较大影响:退火温度愈高,薄膜中形成的晶粒越完整,晶化程度愈高;电阻率随着退火温度的升高而降低,考虑到气敏薄膜的敏感性能,本文选取1 100 ℃为最佳退火温度.由于掺杂的影响,在氧化锡的禁带中产生了杂质能级,使薄膜对2 722 nm附近的红外光波产生了强烈吸收.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于国萍	武汉大学物理科学与技术学院	24	127	7.0	10.0
2	魏正和	武汉大学物理科学与技术学院	9	73	5.0	8.0
3	易涛	北京大学物理学院	6	34	3.0	5.0
4	曾志峰	武汉大学物理科学与技术学院	2	12	2.0	2.0