源气体流量比对F-DLC薄膜结构的影响

• 作者: 宁兆元 江美福
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 反应磁控溅射 氟化类金刚石薄膜 拉曼光谱 红外吸收光谱
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 539-541
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 3050字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.04.019

摘要

以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.拉曼光谱表明,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D)/I(G)减小,晶粒增大,芳香环结构比例下降.红外吸收光谱分析证实了这些推论,指出这是由于薄膜中氟含量上升的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理科学与技术学院	70	528	12.0	18.0
2	江美福	苏州大学物理科学与技术学院	17	144	7.0	11.0