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步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展
步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展
作者:
刘丹
程兆谷
谌巍
赵全忠
高海军
黄惠杰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
步进扫描投影光刻机
工件台
掩模台
套刻精度
摘要:
着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析.
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频谱分析
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内容分析
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(/年)
文献信息
篇名
步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展
来源期刊
激光与光电子学进展
学科
工学
关键词
步进扫描投影光刻机
工件台
掩模台
套刻精度
年,卷(期)
2003,(5)
所属期刊栏目
光刻技术
研究方向
页码范围
14-20
页数
7页
分类号
TN4
字数
7127字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
赵全忠
中国科学院上海光学精密机械研究所
29
170
6.0
12.0
2
程兆谷
中国科学院上海光学精密机械研究所
36
430
13.0
20.0
3
高海军
中国科学院上海光学精密机械研究所
30
610
13.0
24.0
4
黄惠杰
中国科学院上海光学精密机械研究所
69
544
13.0
23.0
5
刘丹
中国科学院上海光学精密机械研究所
52
328
10.0
15.0
6
谌巍
中国科学院上海光学精密机械研究所
6
79
2.0
6.0
传播情况
被引次数趋势
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参考文献(1)
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2003(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2004(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2005(6)
引证文献(3)
二级引证文献(3)
2006(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2007(12)
引证文献(10)
二级引证文献(2)
2008(10)
引证文献(5)
二级引证文献(5)
2009(10)
引证文献(2)
二级引证文献(8)
2010(15)
引证文献(2)
二级引证文献(13)
2011(15)
引证文献(5)
二级引证文献(10)
2012(15)
引证文献(7)
二级引证文献(8)
2013(34)
引证文献(8)
二级引证文献(26)
2014(40)
引证文献(6)
二级引证文献(34)
2015(33)
引证文献(6)
二级引证文献(27)
2016(23)
引证文献(4)
二级引证文献(19)
2017(26)
引证文献(5)
二级引证文献(21)
2018(15)
引证文献(4)
二级引证文献(11)
2019(8)
引证文献(2)
二级引证文献(6)
研究主题发展历程
节点文献
步进扫描投影光刻机
工件台
掩模台
套刻精度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光与光电子学进展
主办单位:
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1006-4125
CN:
31-1690/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海市800-211信箱)
邮发代号:
4-179
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
9127
总下载数(次)
28
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