反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜

• 作者: 盖荣权 瞿燕 赖发春
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 五氧化二铌 光学薄膜 特性
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 46-49
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2315字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5277.2004.04.012

摘要

利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜.薄膜的微结构、表面形貌和光学性质等分别采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和紫外可见近红外分光光度计等观察和测量.测量发现溅射制备的光学薄膜为非晶结构,具有很好的表面平整度,厚度为515 nm,光学波长为550 nm处的折射率为2.264,可见光波段的消光系数小于10-3,光学带隙为3.49 eV.结果表明制备的五氧化二铌膜是性能良好的光学薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	瞿燕	福建师范大学物理与光电信息科技学院	19	108	6.0	10.0
2	赖发春	福建师范大学物理与光电信息科技学院	37	216	8.0	13.0
3	盖荣权	福建师范大学物理与光电信息科技学院	11	70	5.0	8.0