纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及发光特性研究

• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米硅 化学气相沉积 退火 光致发光
• 年，卷（期）: 2004,（z2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 71-75
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3715字
• 语种: 中文

摘要

采用减压化学气相沉积方法,依靠纯N2稀释的SiH4气体的热分解反应,在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜.实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性.结果表明,未退火样品的光致发光特性随沉积温度升高反而减弱.退火温度Ta＞600℃时,晶化趋势明显,Ta＜600℃时,退火温度对晶化的贡献不大,但提高退火温度或延长退火时间可以增加PL强度.同时在退火样品中发现Si-Ox的单晶结构.通过Raman、PL、TEM的分析比较,认为在退火前后分别有两种不同的发光机制起主导作用.