低介电常数含氟碳化膜微观性能分析

• 作者: 刘一兵
• 来源期刊: 湖南理工学院学报（自然科学版）
• 关键词: PECVD 含氟碳化膜 微观性能
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 62-65
• 页数: 4页
• 分类号: TQ133.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-5298.2004.04.019

摘要

以CH4和CF4的混合气体作源气体,利用等离子体增强型化学气相沉积法(PECVD)改变沉积条件,制备了一批含氟碳化膜样品.并用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射、红外光谱、紫外一可见光等设备分析了薄膜的表面形貌和微观性能.