脉冲工艺在薄膜制备中的应用

• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 电弧离子镀 脉冲工艺 低温沉积
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 33-37
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 5413字
• 语种: 中文

摘要

本文综述了国内外脉冲工艺在电弧离子镀和磁控溅射中的应用.脉冲工艺为电弧离子镀净化大颗粒、增强膜基结合力、改善组织形貌、降低沉积温度等起到了重要作用.电弧或溅射离子镀高的离化率为脉冲工艺提供了最好的应用条件.最后,对脉冲工艺在薄膜制备中的应用前景进行了展望.