100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的发展

• 作者: 李志来 王明哲 田兴志 董吉洪
• 来源期刊: 光机电信息
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻机 工件台 掩模台
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳科学与技术
• 页码范围: 20-24
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4228字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1180.2004.05.013

摘要

阐述了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的功能与构成,并通过对国内外100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的技术现状的分析,总结出了100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台所包含的各项关键技术,为100nm步进扫描投影光刻机工件台、掩模台的研制奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田兴志	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	13	226	7.0	13.0
2	李志来	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	50	579	13.0	23.0
3	董吉洪	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	45	418	12.0	18.0
4	王明哲	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	3	95	2.0	3.0