脉冲激光气相沉积法制备钴纳米薄膜实验研究

• 作者: 何英杰 吴卫东 周岳亮 唐永建 孙卫国 张超 杨向东 程新路 许华 谢军 陈志梅 陈正豪
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光气相沉积 钴 单分散性 纳米薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 449-452
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.05|TN249
• 字数: 2644字
• 语种: 中文

摘要

采用脉冲激光沉积技术制备了钴纳米薄膜,分析和讨论了不同背景气压和脉冲频率对钴纳米薄膜表面形貌的影响及纳米微粒的形成机理.实验结果表明:在低背景气压下,等离子体羽辉自身粒子之间的碰撞占主导作用,容易形成液滴;在较高背景气压下,等离子体羽辉边缘粒子和背景气体粒子之间的碰撞占主导作用,容易形成小岛并凝聚成微颗粒;在4Hz的脉冲重复频率和5Pa背景气压下生长出单分散性良好的钴纳米颗粒.