脉冲激光气相沉积法制备的非晶CH薄膜特性分析

• 作者: 吴卫东 戴阳 李建根 王海平 王雪敏 马婷婷
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶CH薄膜 脉冲激光沉积 自支撑 光谱分析
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1291-1295
• 分类号: O484.41
• 字数: 2760字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20102206.1291

摘要

采用脉冲激光气相沉积(PLD)法,研究了氢气压强对非晶CH薄膜性能的影响.原子力显微镜图和白光干涉图显示,薄膜表面平整致密,随着氢气压强增大,粗糙度变大.拉曼光谱分析表明,氢气压强增加,G峰和D峰位置都在向高波数方向移动.傅里叶变换红外光谱分析显示,薄膜中存在sp3-CH2和sp2-CH等基团.最后,采用PLD漂浮法在最优参数氢气压强为0.3 Pa下,成功制备了不同厚度(100～300 nm)、满足一定力学强度、无明显宏观缺陷的自支撑CH薄膜.