氧分压对反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响

• 作者: 徐可为 赵莎
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧分压 反应磁控溅射 ZrO2薄膜 光学透射率
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 功能材料制备加工技术
• 页码范围: 3162-3164,3170
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2239字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.889

摘要

从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响.结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大,使薄膜透射率下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	赵莎	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	1	1	1.0	1.0