DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究

• 作者: 佟玉梅 吕反修 周有良 周祖源 唐伟忠 宋建华 李成明 陈广超
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 自支撑CVD金刚石薄膜 晶面取向 内应力 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 21-24
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2932字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.01.005

摘要

在100kW级DC Plasma Jet CVD设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在Mo衬底上获得不同占优晶面和应力状态的膜体结构.研究表明:不同取向的晶面在膜体中的分布不同,但各晶面随沉积温度的变化规律是相似的,在900℃左右容易获得较大的(220)晶面占优的膜体结构;薄膜的内应力沿晶体生长方向逐渐减小,且随沉积温度或甲烷浓度的增大而增大;具有高取向度的膜体将获得较为平整的表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
3	陈广超	北京科技大学材料科学与工程学院	27	235	9.0	14.0
4	宋建华	北京科技大学材料科学与工程学院	29	265	11.0	14.0
5	李成明	北京科技大学材料科学与工程学院	71	480	12.0	19.0
6	周祖源	北京科技大学材料科学与工程学院	1	8	1.0	1.0
7	周有良	北京科技大学材料科学与工程学院	1	8	1.0	1.0