X射线光刻掩模加工过程中的形变研究

• 作者: 余建祖 余雷 王永坤
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模形变 平面内形变 非平面形变 X射线掩模 背面刻蚀
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 18-20,29
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2202字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.01.005

摘要

对以SiNx为衬基的X射线光刻掩模在背面刻蚀过程中的形变进行数值仿真,研究了Si片和衬基的各种参数对掩模最大平面内形变和非平面形变的影响.结果表明,参数的变化明显影响最大非平面形变量.当Si片的厚度和直径增大,衬基的厚度和初始应力减小时,最大平面内形变与非平面形变减小,而衬基的材料对两者的影响不明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王永坤	北京航空航天大学航空科学与工程学院	10	33	4.0	5.0
2	余建祖	北京航空航天大学航空科学与工程学院	61	336	10.0	16.0
3	余雷	北京航空航天大学航空科学与工程学院	6	11	3.0	3.0