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利用甲烷/氢微波等离子体CVD工艺在纯钛基底上沉积纳米金刚石薄膜
利用甲烷/氢微波等离子体CVD工艺在纯钛基底上沉积纳米金刚石薄膜
作者:
林澈文
蒋修治
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
纳米金刚石
沉积薄膜
微波等离子体CVD
纯钛基底
表面粗糙度
摘要:
与微米金刚石薄膜不同,纳米金刚石薄膜表面平滑.因此,在摩擦学应用领域中,纳米金刚石薄膜是最理想的.本研究利用CH4/H2微波等离子体CVD工艺在纯钛上沉积出纳米金刚石薄膜和微米金刚石薄膜.采用的沉积条件为:沉积温度约为1173K;沉积压力为8.0kPa;CH4浓度在0.5 mol%和5 mol%之间变化;沉积时间则从4h到12h不等.金刚石薄膜表面用扫描电镜(SEM)观察.在激光拉曼光谱中,微米金刚石薄膜在1332cm-1处有sp3键碳的锐峰.1140cm-1附近的光谱带与纳米金刚石薄膜的特征有关.并用X射线衍射对金刚石薄膜进行了分析.X射线衍射花样证实,纳米金刚石薄膜存在(111)面和(220)面.金刚石薄膜的表面粗糙度随着CH4浓度的增加而减小.但是,甲烷浓度在2 mol%与5 mol%之间变化时,金刚石薄膜的表面粗糙度接近50nm.据证实,CH4浓度在2 mol%和5 mol%之间,利用CH4/H2微波等离子体CVD工艺可以沉积出纳米金刚石薄膜.
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文献信息
篇名
利用甲烷/氢微波等离子体CVD工艺在纯钛基底上沉积纳米金刚石薄膜
来源期刊
超硬材料工程
学科
工学
关键词
纳米金刚石
沉积薄膜
微波等离子体CVD
纯钛基底
表面粗糙度
年,卷(期)
2005,(5)
所属期刊栏目
国外技术
研究方向
页码范围
46-51
页数
6页
分类号
TQ164
字数
4275字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1673-1433.2005.05.012
五维指标
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
纳米金刚石
沉积薄膜
微波等离子体CVD
纯钛基底
表面粗糙度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
超硬材料工程
主办单位:
中国有色桂林矿产地质研究院有限公司
出版周期:
双月刊
ISSN:
1673-1433
CN:
45-1331/TD
开本:
大16开
出版地:
广西桂林市辅星路9号
邮发代号:
48-64
创刊时间:
1990
语种:
chi
出版文献量(篇)
2347
总下载数(次)
9
总被引数(次)
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