射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜

• 作者: 姜恩永 李志青 白海力 陈逸飞
• 来源期刊: 天津大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Fe-N薄膜 饱和磁化强度 射频磁控溅射
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 化学工程
• 页码范围: 573-576
• 页数: 4页
• 分类号: O482.54
• 字数: 1481字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0493-2137.2005.07.003

摘要

用射频磁控溅射法分别在具有20 nm Fe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气分压为2.66×10-2 Pa,基片温度为100～150 ℃时,最有利于α″-Fe16N2相的形成.在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度高达2.735 T,超过纯Fe的饱和磁化强度值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白海力	天津大学现代材料物理研究所	12	62	4.0	7.0
2	姜恩永	天津大学现代材料物理研究所	44	225	8.0	14.0
3	陈逸飞	天津大学现代材料物理研究所	1	5	1.0	1.0
7	李志青	天津大学现代材料物理研究所	12	39	4.0	5.0