磁控溅射材料沉积速率的定标方法的研究

• 作者: 吴文娟 张众 王占山 王洪昌 王风丽 秦树基 陈玲燕
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 多层膜 磁控溅射 定标
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 537-539
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+1|O434.12
• 字数: 1990字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2005.04.019

摘要

介绍了一种利用磁控溅射制备多层膜速率的定标方法.用高精度磁控溅射镀膜设备在同一块基片上先后镀制了两种周期的多层膜,用X射线衍射仪对其进行掠入射衍射测量,测量数据经线性拟合,可同时求得两种多层膜的周期,进而得到镀膜速率.与常用的定标方法相比,该方法不仅可以得到与常用定标方法相同的实验结果,而且提高了工作效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈玲燕	同济大学精密光学工程技术研究所	60	522	13.0	19.0
2	王占山	同济大学精密光学工程技术研究所	92	640	14.0	19.0
3	王风丽	同济大学精密光学工程技术研究所	27	135	7.0	9.0
4	张众	同济大学精密光学工程技术研究所	25	122	7.0	10.0
5	秦树基	同济大学精密光学工程技术研究所	24	190	9.0	12.0
6	吴文娟	同济大学精密光学工程技术研究所	44	167	8.0	10.0
7	王洪昌	同济大学精密光学工程技术研究所	14	122	7.0	10.0