室温磁控溅射制备(Ti,Zr)N薄膜及其性能研究

• 作者: 徐成俊 王亚平 黄佳木
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: (Ti,Zr)N薄膜 金黄色 表面形貌 电子结构 多晶态
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 517-520
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3790字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2005.05.011

摘要

采用直流反应磁控溅射工艺,在载波片和Al基材上制备出金黄色的(Ti,Zr)N薄膜.(Ti,Zr)N薄膜具有比TiN薄膜更高的硬度和更强的耐腐蚀性能.用XRD衍射方法和扫描隧道显微镜对薄膜的晶体结构、微观表面形貌和电子结构进行了测试分析.XRD结果表明,(Ti,Zr)N薄膜为多晶态,存在TiN和ZrN两种分离相;从表面形貌可知,薄膜表面平整,晶粒排列致密且无连接松散的大颗粒;STS谱表明,Zr掺杂后,禁带宽度仍为1.64eV,但在禁带内增加了新能级,新能级的宽度分别为0.33eV和0.42eV,这也正是掺杂Zr后,薄膜仍呈现金黄色的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料学院	84	690	13.0	20.0
2	王亚平	重庆大学材料学院	3	44	2.0	3.0
3	徐成俊	重庆大学材料学院	3	70	3.0	3.0