中频磁控溅射周期性变电流(Ti,Al)N多层薄膜的结构与性能

• 作者: 于栋利 孙丽丽 杨会生 王燕斌 罗庆洪 陆永浩
• 来源期刊: 现代科学仪器
• 学科: 工学
• 关键词: 显微结构 中频反应磁控溅射 (Ti Al)N多层薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 分析测试技术与应用
• 页码范围: 97-101
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 字数: 3764字
• 语种: 中文

摘要

使用独特的镶拼矩形TiAl靶,用中频反应磁控溅射方法,采用周期性改变靶电流的方法在高速钢(W18Cr4V)基体上沉积了(Ti,Al)N多层薄膜.利用场发射扫描电镜、纳米硬度仪和x射线衍射仪等方法研究了(Ti,Al)N多层薄膜组织结构、硬度和膜基结合性能.结果表明,制备的(Ti,Al)N多层薄膜硬度略低于20GPa.弹性模量均大于230GPa,薄膜的临界载荷均大于50N;多层薄膜有一定的择优取向,且择优取向随着靶电流周期性的改变而有所变化.同时发现,(Ti,Al)N多层薄膜硬度是结构、界面和择优取向共同作用的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王燕斌	北京科技大学材料物理与化学系	44	250	9.0	13.0
2	杨会生	北京科技大学材料物理与化学系	21	118	6.0	10.0
3	陆永浩	北京科技大学材料物理与化学系	45	134	6.0	9.0
4	于栋利	燕山大学材料科学与工程学院	23	79	5.0	7.0
5	罗庆洪	北京科技大学材料物理与化学系	7	26	3.0	4.0
6	孙丽丽	北京科技大学材料物理与化学系	1	1	1.0	1.0