磁控溅射法La0.5Ca0.5MnxTi1-xO3薄膜的制备与结构研究

• 作者: 周雪梅 孟津 杜丕一 翁文剑 韩高荣
• 来源期刊: 浙江大学学报(工学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 钙钛矿相 复铁电性 薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 材料科学与化学
• 页码范围: 1077-1081
• 页数: 5页
• 分类号: TB34|TB321
• 字数: 4816字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2005.07.034

摘要

利用射频磁控溅射法结合后期热处理,在Si(100)基板上以不同的工艺条件成功制备了La0.5Ca0.5MnxTi1-xO3(LCMTO)复铁电性磁电子薄膜.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、电子衍射能谱(EDS)等手段对薄膜进行了相的形成、结构特性及薄膜组成等的测试.研究表明,薄膜在600℃以上开始析晶,850℃以上结晶完成,形成正交晶系钙钛矿相.硅基板上的LCMTO薄膜在不同温度下析出晶相的晶格常数不同,温度越高,晶相的晶格常数越大;薄膜厚度越大,晶格常数相对较小;在薄膜制备时提高氧分压,形成氧空位浓度低的完整晶相,Si基板上LCMTO薄膜的晶格常数相对较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜丕一	浙江大学硅材料国家重点实验室	80	880	17.0	27.0
2	韩高荣	浙江大学硅材料国家重点实验室	187	1971	24.0	35.0
3	翁文剑	浙江大学硅材料国家重点实验室	79	1088	20.0	30.0
4	孟津	浙江大学硅材料国家重点实验室	2	10	2.0	2.0
5	周雪梅	浙江大学硅材料国家重点实验室	4	5	1.0	2.0