不同能量沉积方式对薄膜界面反应的影响

• 作者: 于广华 冯春 杨钰 腾蛟 韩刚
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 界面反应 磁性薄膜 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 页码范围: 1811-1815
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3194字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2005.11.029

摘要

通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)将1～10个Fe原子层(ML)以楔型(wedge-shape)方式分别沉积到NiO(001)基片上,并对其进行磁光克尔效应(MOKE)原位测试.结果表明:通过MBE这种低能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约2 ML的磁死层;而通过PLD这种较高能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约3 ML的磁死层.X射线光电子能谱(XPS)研究Fe/NiO界面的结果表明:两种沉积方式都能使Fe原子与单晶NiO在界面处发生化学反应,这是导致磁死层的一个重要原因;对于MBE和PLD沉积方式来说,从靶材上被蒸发或溅射下来到达基片的原子所具有的能量很低,分别约为0.1 eV和1.0 eV,反应层较浅;磁控溅射沉积Fe原子的能量约为几～十几电子伏特,导致的反应深度约1.5 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料物理与化学系	88	372	9.0	14.0
2	冯春	北京科技大学材料物理与化学系	18	55	5.0	6.0
3	韩刚	北京科技大学材料物理与化学系	5	9	2.0	3.0
4	杨钰	北京科技大学材料物理与化学系	2	3	1.0	1.0
5	腾蛟	北京科技大学材料物理与化学系	1	0	0.0	0.0