反应溅射Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜的微结构与力学性能

• 作者: 孔明 李戈扬 胡晓萍 董云杉 顾明元
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 反应溅射 纳米晶复合薄膜 微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2433字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.01.013

摘要

采用Ar、N2和SiH4混合气体反应溅射制备了一系列不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜,并采用EDS、AES、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的微结构和力学性能.结果表明通过控制混合气体中SiH4分压可以方便地获得不同Si含量的Ti-Al-Si-N纳米晶复合薄膜.当Si含量达到3.5%(原子分数)时,薄膜中出现TiSix界面相,造成(Ti,Al)N晶粒细化,使薄膜力学性能得到提高,硬度和弹性模量的最高值分别为36.0GPa和400GPa.进一步提高Si含量,薄膜的力学性能逐渐降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾明元	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	82	1649	22.0	37.0
2	董云杉	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	16	108	6.0	9.0
3	孔明	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	19	194	8.0	13.0
4	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
5	胡晓萍	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	11	138	7.0	11.0