空气等离子体刻蚀对金刚石薄膜性能的影响

• 作者: 冉均国 廖晓明 李德贵 苏葆辉 苟立
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 电阻率 CVD 等离子体 辐射剂量计
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 30-32,48
• 页数: 4页
• 分类号: TQ163.2
• 字数: 3280字
• 语种: 中文

摘要

为了提高金刚石薄膜电学和辐射响应性能,在石英钟罩式MPCVD装置中,采用微波空气等离子体刻蚀处理来提高金刚石薄膜的纯度、电阻率和辐射剂量计响应性能,研究了不同的微波功率、气体流量、处理时间对金刚石薄膜电阻率、X光响应的影响,结果表明,空气等离子体中高能、高活性的氧和氮能有效刻蚀薄膜表面的石墨等非金刚石相,提高膜的纯度,使金刚石薄膜的电阻率从1.11×109Ω·cm提高到1.83×1014 Ω·cm,提高了5～6个数量级,且处理后的金刚石薄膜X射线响应灵敏度提高了15倍,并获得了最佳的空气等离子体刻蚀条件.空气等离子体刻蚀处理是一种易于掌控的刻蚀方法,可有效提高金刚石薄膜表面质量,且资源丰富,价格便宜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德贵	四川大学材料学院	7	10	2.0	3.0
2	苟立	四川大学材料学院	100	858	13.0	25.0
3	冉均国	四川大学材料学院	130	1122	16.0	28.0
4	苏葆辉	四川大学材料学院	34	153	6.0	10.0
5	廖晓明	四川大学材料学院	23	43	4.0	4.0