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文献信息
篇名 90nm与65nm光刻工艺各有千秋
来源期刊 半导体行业 学科 工学
关键词 光刻工艺 90nm工艺 65nm工艺 光学光刻技术 半导体技术 半导体市场 大数值孔径 金属布线 金属互连 特征尺寸
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 38-40
页数 3页 分类号 TN305.7
字数 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
光刻工艺
90nm工艺
65nm工艺
光学光刻技术
半导体技术
半导体市场
大数值孔径
金属布线
金属互连
特征尺寸
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体行业
双月刊
无锡市梁溪路14号
出版文献量(篇)
1222
总下载数(次)
6
总被引数(次)
0
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