沉积温度对ZrO2薄膜结构及表面形貌的影响

• 作者: 张庆瑜 马春雨
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 ZrO2薄膜 磁控溅射 沉积温度 结构分析 表面形貌
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 119-123
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 4034字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.z1.030

摘要

采用反应磁控溅射方法,在室温～550℃的沉积温度下,在Si(100)和玻璃基片上沉积了厚度在纳米量级的ZrO2薄膜.通过高分辨电子显微镜、原子力显微镜和透射光谱分析,研究了沉积温度对ZrO2薄膜的相结构、表面形貌和折射率的影响.研究结果表明:沉积温度低于250℃时,ZrO2薄膜的结构完全呈非晶态,但250℃沉积的薄膜有比较高的致密度;随着沉积温度的升高,薄膜出现了明显的结晶现象,主要为单斜ZrO2相;沉积温度为450℃时,ZrO2薄膜晶化不完全,在晶粒堆砌处有非晶ZrO2相存在;沉积温度为550℃时,ZrO2薄膜完全晶化,在晶粒堆砌处有四方ZrO2相存在.此外,根据薄膜相结构和表面形貌的研究结果,探讨了沉积温度对薄膜生长行为的影响及其物理机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张庆瑜	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	92	897	16.0	25.0
2	马春雨	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	22	178	8.0	12.0