沉积温度对直流磁控溅射TiN薄膜结构和 表面形貌的影响

• 作者: 刘昌福 唐德文 李奎江 肖畅飞 邹树梁
• 来源期刊: 南华大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 锆合金 氮化钛 沉积温度
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 机械工程·电气工程
• 页码范围: 86-89
• 页数: 4页
• 分类号: TG178
• 字数: 2170字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0062.2017.04.017

摘要

利用直流磁控溅射技术,在锆合金基体表面上研究不同基体温度对沉积TiN薄膜的影响.分别采用X射线衍射仪和扫描电子显微镜(SEM)对TiN薄膜结构、表面形貌和截面形貌进行了研究.研究结果表明:TiN薄膜在不同沉积温度下晶格取向是不同的;200℃时,TiN为随机取向;300℃时,TiN薄膜以(111)为择优取向;400℃时,薄膜晶化质量不断提高,最后逐渐趋于稳定.300℃时,薄膜的致密性与均匀性较好,表面无明显缺陷.