退火对真空蒸发Ti3O5制备光学薄膜性能的影响

• 作者: 胡小锋 薛亦渝 郭爱云
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti3O5 光学薄膜 退火
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 80-83
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 3250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2006.02.017

摘要

采用真空蒸发法,以Ti3O5为膜料分别在基片温度为200℃、250℃、300℃的条件下制备氧化钛光学薄膜,XRD结果显示,沉积态薄膜为无定形态,400℃退火后,均由无定形态向锐铁矿结构转变;不同基片温度下制备的氧化钛薄膜退火后,折射率均随基片温度的升高而增大;随着退火温度的升高,(101)晶相择优取向十分明显,结晶度增大;经过400℃、500℃、600℃退火后,薄膜折射率逐渐上升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛亦渝		48	532	13.0	21.0
2	郭爱云		10	84	6.0	9.0
3	胡小锋		4	26	4.0	4.0