强电流直流伸展电弧等离子体CVD金刚石沉积均匀性研究

• 作者: 吕反修 唐伟忠 宋建华 苗晋琦
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 强电流直流伸展电弧 等离子体 均匀性 有效沉积区域
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2466字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2006.01.008

摘要

采用特殊的等离子体技术成功研制出适合于金刚石涂层工具工业化生产的中试设备-强电流直流伸展电弧等离子体CVD-500型中试设备.单腔体沉积的沉积工件数量在100支以上;对该设备的沉积均匀性进行了系统的研究,位于等离子体扩散区同一柱面不同位置沉积的金刚石形貌及质量均匀、一致,涂层厚度的不均匀度在±3.5%的范围内;同一沉积试件不同位置处的金刚石形貌及质量稍有差别,但均在许可范围之内,涂层厚度的不均匀度在±2%的范围内;等离子体的扩散区的径向6 cm～8cm,轴向距阳极7 cm～19cm的范围为该设备的有效沉积区域.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
3	宋建华	北京科技大学材料科学与工程学院	29	265	11.0	14.0
4	苗晋琦	北京科技大学材料科学与工程学院	10	77	6.0	8.0