脉冲磁控溅射氮化铬薄膜及其性能研究

• 作者: 于翔 傅玉娜 王成彪
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 氮化铬膜 性能
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 55-56
• 页数: 2页
• 分类号: TQ174.758

摘要

采用新型脉冲磁控溅射技术制备了一系列氯化铬膜，对所制备的不同厚度薄膜进行了AFM和SEM形貌等分析．测定了薄膜的膜基结合强度和硬度，并对薄膜的摩擦学性能进行了研究。结果表明：通过使用铬过渡层可以提高膜基结合强度，镀层厚度对镀层摩擦学性能有影响，膜厚为1200nm的氯化铬膜试样显示出来高硬度、低摩擦系数和良好的抗磨性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王成彪	中国地质大学工程技术学院	60	471	13.0	18.0
2	于翔	中国地质大学工程技术学院	15	140	8.0	11.0
3	傅玉娜	中国地质大学工程技术学院	2	10	1.0	2.0