ZAO薄膜使用射频溅射法生长之参数的研究

• 作者: 汪建华 王升高 耿茜
• 来源期刊: 应用化工
• 学科: 工学
• 关键词: ZAO陶瓷靶材 ZAO薄膜 RF溅射 XRD 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 910-912,917
• 页数: 4页
• 分类号: TB381|TB321
• 字数: 1939字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3206.2006.12.002

摘要

以氧化铝锌陶瓷为溅射靶材,在氩气环境下,使用射频溅射法在玻璃基片上制备氧化铝锌(ZAO)薄膜.通过调节气体压强、基片温度、溅射功率制膜,得到以C轴(002)为选择取向的氧化锌薄膜.由XRD、原子力显微镜(AFM)等对薄膜进行分析.结果表明,制备薄膜的最佳条件为:溅射压强0.4 Pa,溅射功率200 W,基片温度300℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王升高	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	35	104	5.0	8.0
2	汪建华	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
3	耿茜	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	4	9	2.0	3.0