直流磁控溅射法制备金钆多层膜

• 作者: 何智兵 吴卫东 唐永建 张继成 许华
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 Au/Gd多层膜
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 61-62
• 页数: 2页
• 分类号: TB303

摘要

本文介绍了直流磁控溅射方法制备Au／Gd多层膜，探索了多层膜的制备工艺参数，利用X射线衍射表征了多层膜的界面结构及混和膜的晶型结构，原子力显微镜观察了膜的表面形貌和粗糙度。成功地制备了膜层厚度控制精确、界面清晰和表面光洁的Au／Gd多层膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建		281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东		140	1087	18.0	26.0
3	许华		23	287	9.0	16.0
4	何智兵		46	212	7.0	11.0
5	张继成		29	254	9.0	15.0