光退火制备多晶硅薄膜与量子态模型

• 作者: 冯团辉 卢景霄 张丽伟 扬仕娥 靳锐敏
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 量子态模型 光退火 RAMAN光谱
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 98-99
• 页数: 2页
• 分类号: TK511.4

摘要

本文发现在用光退火制备多晶硅薄膜过程中退火温度、时间等与多晶硅薄膜晶粒大小等晶化性质符合量子态模型。并对其物理思想进行了分析。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丽伟	郑州大学材料物理教育部重点实验室	17	90	7.0	9.0
2	卢景霄	郑州大学材料物理教育部重点实验室	100	570	12.0	17.0
3	靳锐敏	郑州大学材料物理教育部重点实验室	8	55	4.0	7.0
4	冯团辉	郑州大学材料物理教育部重点实验室	10	86	6.0	9.0
5	扬仕娥	郑州大学材料物理教育部重点实验室	2	0	0.0	0.0