玻璃衬底上中温制备多晶硅薄膜的量子态现象

• 作者: 冯团辉 卢景霄 张丽伟 王海燕 靳瑞敏
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: PECVD法 非晶硅薄膜 传统炉退火 量子态 晶粒大小
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 104-106
• 页数: 3页
• 分类号: TK51
• 字数: 414字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.023

摘要

用PECVD法直接沉积的非晶硅(a-Si:H)薄膜用传统炉在中温退火,然后用拉曼光谱、XRD和SEM分析,发现晶粒大小随退火温度和退火时间呈现量子态现象.分析发现在传统炉中850℃下退火三个小时晶粒大小出现极大值,平均晶粒尺寸为30nm左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张丽伟	郑州大学材料物理教育部重点实验室	17	90	7.0	9.0
2	王海燕	郑州大学材料物理教育部重点实验室	62	372	11.0	16.0
3	卢景霄	郑州大学材料物理教育部重点实验室	100	570	12.0	17.0
4	靳瑞敏	郑州大学材料物理教育部重点实验室	13	55	4.0	7.0
5	冯团辉	郑州大学材料物理教育部重点实验室	10	86	6.0	9.0