大面积金刚石薄膜的均匀性

• 作者: 冉均国 刘炼 戴孟乔 苟立 郑元元
• 来源期刊: 四川大学学报（工程科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 微波等离子体化学气相沉积 电阻率 均匀性
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 103-106
• 页数: 4页
• 分类号: TG113
• 字数: 2996字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-3087.2007.02.019

摘要

金刚石膜具有优异的电学、热学性质,均匀的大面积金刚石膜是其在电子领域工业化应用的前提.利用自行设计微波等离子体化学气相沉积装置在直径51 mm和76 mm硅片上制备金刚石薄膜.用扫描电子显微镜观察所得金刚石膜的表面形貌,用ZC36高阻仪测量金刚石薄膜的电阻率.通过电阻率和形貌的均匀性判断金刚石薄膜的均匀性.结果表明,基片位置的变化引起沉积温度和含碳基团的种类、浓度与原子氢浓度的改变,从而影响了金刚石薄膜的形核和生长过程,最终影响金刚石膜的均匀性.直径51 mm金刚石薄膜表面形貌比直径76 mm的薄膜更均匀,但两种尺寸金刚石膜中间和四周的电阻率数值都接近,达到108 Ω·cm,电阻率均匀性好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苟立	四川大学材料科学与工程学院	100	858	13.0	25.0
2	冉均国	四川大学材料科学与工程学院	130	1122	16.0	28.0
3	郑元元	四川大学材料科学与工程学院	2	7	2.0	2.0
4	刘炼	四川大学材料科学与工程学院	1	4	1.0	1.0
5	戴孟乔	四川大学材料科学与工程学院	1	4	1.0	1.0