Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜的磁控溅射法制备与介电性能研究

• 作者: 何军 江娟 潘瑞坤 王今朝 王军 章天金
• 来源期刊: 湖北大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: BST薄膜 磁控溅射 介电性能
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 物理学与电子技术
• 页码范围: 160-163
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2645字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2375.2007.02.015

摘要

用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜.研究沉积气压和衬底温度对BST薄膜结构及介电性能的影响.应用XRD和AFM表征薄膜的物相结构及其表面形貌,通过阻抗分析仪测量薄膜的介电性能.结果表明在3.0 Pa沉积气压和600 ℃衬底温度下制备的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜有较好的微结构和介电性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	章天金	湖北大学材料科学与工程学院	82	321	11.0	14.0
2	江娟	湖北大学材料科学与工程学院	32	130	7.0	10.0
3	何军	湖北大学材料科学与工程学院	6	15	2.0	3.0
4	王今朝	湖北大学材料科学与工程学院	7	1	1.0	1.0
5	王军	湖北大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
6	潘瑞坤	湖北大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0