溅射SiOx薄膜氧含量与红外特性关系研究

• 作者: 刘静 王慧
• 来源期刊: 陶瓷
• 学科: 工学
• 关键词: 反应溅射法 SiO2薄膜 XPS FTIR
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 27-29
• 页数: 3页
• 分类号: TQ17
• 字数: 2104字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2872.2007.09.006

摘要

用反应溅射法制成了SiO2薄膜,研究其傅立叶变换红外吸收光谱图特性.Si-O-Si键的伸缩振动吸收峰和弯曲振动吸收峰分别位于1 100cm-1和600 cm-1附近.结合XPS定量测试结果讨论了吸收峰与薄膜中氧含量的关系,目的用FTIR非破坏性快速方便预测SiOx薄膜的化学配比.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王慧		19	62	5.0	7.0
2	刘静		28	109	6.0	10.0