中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌

• 作者: 刘升光 牟宗信 王振伟 赵华玉
• 来源期刊: 航空制造技术
• 学科: 航空航天
• 关键词: 磁控溅射 物理化学气相沉积 氮化铝
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 高能束流加工技术
• 页码范围: 378-380
• 页数: 3页
• 分类号: V2
• 字数: 2084字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-833X.2007.z1.087

摘要

在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	牟宗信	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	38	217	10.0	12.0
2	赵华玉	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	2	15	1.0	2.0
3	刘升光	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	13	20	3.0	3.0
4	王振伟	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	4	17	2.0	4.0