中频磁控溅射沉积梯度过渡Cr/CrN/CrNC/CrC膜的附着性能

• 作者: 代明江 余志明 侯惠君 李洪武 林松盛 牛仕超
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: CrC 中频磁控溅射 离子源 附着力
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 页码范围: 1307-1312
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444|TB43
• 字数: 4151字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2007.08.014

摘要

采用中频磁控溅射结合无灯丝离子源技术沉积梯度Cr/CrN/CrNC/CrC膜层,设计两组正交实验对膜层中界面Cr层及梯度层沉积的工艺参数对附着性能的影响进行研究.利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)对其表面形貌及梯度成分进行表征;用划痕仪、显微硬度计及洛氏硬度计测评其附着性能,并对比两者测评的有效性.所得最优工艺参数为:梯度层沉积偏压100 V,中频功率6.5 kW,真空度0.6 Pa;Cr层的沉积时间、离子源电流及中频功率分别为2 min、4 A和6.5 kW.高中频功率及离子辅助沉积Cr层能有效提高膜层附着力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余志明	中南大学材料科学与工程学院	80	689	15.0	21.0
2	林松盛	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	45	332	11.0	14.0
3	代明江	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	52	458	13.0	18.0
4	侯惠君	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	34	234	10.0	13.0
5	李洪武	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	11	130	8.0	11.0
6	牛仕超	中南大学材料科学与工程学院	5	69	4.0	5.0