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摘要:
给出了采用硅外延BCD工艺路线制造的低成本的VDMOS设计,纵向上有效利用17μm厚度的外延层,横向上得到的VDMOS元胞面积为324μm2,工艺上简化为18次光刻,兼容了标准CMOS、双极管和高压p-LDMOS等器件.VDMOS测试管的耐压超过200V,集成于64路170 PDP扫描驱动芯片功率输出部分,通过了LG-model42v6的PDP上联机验证.
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内容分析
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文献信息
篇名 用于PDP扫描驱动芯片的低成本VDMOS及其兼容工艺
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 PDP VDMOS BCD工艺 低成本 元胞结构
年,卷(期) 2007,(11) 所属期刊栏目 研究快报
研究方向 页码范围 1679-1684
页数 6页 分类号 TN402
字数 788字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.11.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 庄奕琪 西安电子科技大学微电子研究所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 183 1168 15.0 22.0
2 李小明 西安电子科技大学微电子研究所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 19 123 6.0 10.0
3 张丽 西安电子科技大学微电子研究所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 25 178 9.0 12.0
4 辛维平 西安电子科技大学微电子研究所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 3 10 2.0 3.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
PDP
VDMOS
BCD工艺
低成本
元胞结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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