射频磁控溅射法制备TiO2-x薄膜及其光响应的研究

• 作者: 曾人杰 李玉花 陈朝凤 黄东升
• 来源期刊: 厦门大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2-x 氧空位 色心 光响应 溅射
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 525-528
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 2560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-0479.2007.04.019

摘要

用射频反应磁控溅射法,250℃时在石英玻璃片上沉积TiO2-x薄膜,用XRD、SEM、XPS、UV-Vis等对其进行表征.结果表明:未经热处理的薄膜呈锐钛矿型,薄膜表面粗糙,粒径约为30 nm的小晶粒聚集在一起,形成一个个"小层",层层错叠;经600℃保温2 h热处理的薄膜呈金红石型,晶粒较大,孔隙变大.XPS分析发现:未经热处理的薄膜表面存在着20%的三价钛,有与之相对应的较多的氧空位;经600℃在空气中热处理后,三价钛减少到8%,同时氧空位减少.UV-Vis吸收表明,氧空位的存在有利于TiO2-x的吸收边向可见光波段移动.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾人杰	厦门大学化学化工学院材料科学与工程系	28	428	11.0	20.0
2	黄东升	厦门大学化学化工学院材料科学与工程系	3	117	3.0	3.0
3	陈朝凤	厦门大学化学化工学院材料科学与工程系	3	117	3.0	3.0
4	李玉花	厦门大学化学化工学院材料科学与工程系	3	117	3.0	3.0