水热法制备高折射率的HfO2光学薄膜

• 作者: 刘春泽 沈军 王生钊 罗爱云
• 来源期刊: 同济大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: HfO2薄膜 水热合成 高折射率 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 1666-1669
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2793字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-374X.2007.12.017

摘要

采用水热合成技术制备了HfO2胶体,用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜.采用多种仪器设备对薄膜进行性能测试和表征,并用输出波长为1.06 μm、脉宽为10 ns的电光调Q激光系统产生的强激光测试薄膜的激光损伤阈值.研究表明,水热合成技术制备的HfO2薄膜具有较高的激光损伤阈值、折射率和较好的平整度.对HfO2薄膜激光损伤形貌和成因进行了研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
2	罗爱云	同济大学波耳固体物理研究所	10	111	7.0	10.0
3	刘春泽	同济大学波耳固体物理研究所	7	58	4.0	7.0
4	王生钊	同济大学波耳固体物理研究所	3	17	2.0	3.0