氮分压对氮化铜薄膜结构及光学带隙的影响

• 作者: 徐慧 李明君 李燕峰 肖剑荣
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氮化铜薄膜 反应射频磁控溅射 晶体结构 光学带隙
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 4169-4174
• 页数: 6页
• 分类号: O6
• 字数: 4334字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.07.088

摘要

在不同的氮分压r(r=N2/[N2+Ar])和射频功率P下,使用反应射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备了氮化铜薄膜样品.用台阶仪测得了薄膜的厚度,用原子力显微镜、X射线衍射仪、紫外.可见光谱仪对薄膜的表面形貌、结构及光学性质进行了表征分析.结果表明,薄膜的沉积速率随P和r的增加而增大.薄膜表面致密均匀,晶粒尺寸为30 nm左右.随着r的增加,薄膜颗粒增大,且薄膜由(111)晶面转向(100)晶面择优生长.薄膜的光学带隙Eg在1.47-1.82 eV之间,随r的增加而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖剑荣	中南大学物理科学与技术学院	9	25	3.0	4.0
3	徐慧	中南大学物理科学与技术学院	100	517	10.0	17.0
4	李燕峰	中南大学物理科学与技术学院	22	198	6.0	13.0
7	李明君	中南大学物理科学与技术学院	6	47	4.0	6.0