无掩模光刻技术研究

• 作者: 胡松 蒋文波
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 无掩模光刻 扫描电子束光刻 波带片阵列光刻 掩模版
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-3,64
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2604字
• 语种: 中文

摘要

介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题,并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析.研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	蒋文波	中国科学院光电技术研究所	7	74	3.0	7.0