ECR结合磁控溅射——制备DLC薄膜的新方法

• 作者: 汤皎宁 聂君兰 谷坤明
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: 含金属C薄膜 ECR溅射镀膜 磁控溅射 石墨靶
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 设计与工艺
• 页码范围: 69-71
• 页数: 3页
• 分类号: TG7
• 字数: 2503字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7008.2008.03.019

摘要

介绍了新型的结合电子回旋共振(ECR)微波等离子体气相沉积与磁控溅射镀膜特点的ECR-650型镀膜系统,并利用该系统通过溅射石墨靶和金属钛靶在不锈钢基底上制备了具有Ti/TiNx/TiNxCy中间层结构的C薄膜.由于镀膜工艺问题,得到的薄膜主要由石墨构成.研究了制备时不同的气压和氩气分压对薄膜表面形貌、硬度等的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤皎宁		93	614	13.0	20.0
2	谷坤明		20	98	6.0	9.0
3	聂君兰		3	13	1.0	3.0