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摘要:
采用无机sol-gel法,以分析纯V2O5为原料,在Si衬底、玻璃衬底上空气中加热制备了V2O5薄膜,在不同温度下真空退火,得到了具有择优取向的VO2薄膜.研究了其制备工艺和显微结构.结果表明:在玻璃衬底和硅衬底上薄膜的最佳真空退火工艺均为480 ℃/2 h.所制备的VO2薄膜具有沿<ll0>晶向生长的择优取向.薄膜表面形貌良好,颗粒尺寸分布均匀.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 无机sol-gel法制备二氧化钒薄膜的研究
来源期刊 电子元件与材料 学科 化学
关键词 无机非金属材料 VO2薄膜 V2O5薄膜 无机sol-gel法
年,卷(期) 2008,(11) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 46-49
页数 4页 分类号 TB34|O614.51
字数 2520字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2008.11.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李智东 昆明理工大学材料与冶金工程学院 29 219 9.0 14.0
2 赵昆渝 昆明理工大学材料与冶金工程学院 71 455 11.0 18.0
3 邹平 昆明理工大学材料与冶金工程学院 76 1009 14.0 30.0
4 吴东 昆明理工大学材料与冶金工程学院 7 45 4.0 6.0
5 葛振华 昆明理工大学材料与冶金工程学院 7 35 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
无机非金属材料
VO2薄膜
V2O5薄膜
无机sol-gel法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
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16
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31758
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